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2025

中国炮轰透社:恶意消息来捧杀中国光刻机暗示

作者: 6163银河线路检测


中国炮轰透社:恶意消息来捧杀中国光刻机暗示

  时间回溯到20世纪80年代,彼时的光刻机霸从是美国的GCA公司(地球物理公司),其次是美国的珀金埃尔默、日本的尼康、佳能再加上荷兰的ASML。

  林楠博士已经取荷兰半导体察看者、《新鹿特丹商报》记者马克·海金克一路接管了察看者网旗下对话栏目标专访。正在傍边,掌管人对二人倡议提问:其他企业能否能够效仿ASML的成功经验,复制出一套全新的光刻机系统?

  你必必要每个零部件之间彼此无效的整合运转,这涉及到大量的工程问题和手艺经验。我们并不是说复制ASML光刻机这条径是完全不成能的,但你想要制制出程度不错而且能够商用的设备,需要破费很长时间。

  上海察看者网认为,该演讲了的:内容并非完全虚假,但也不完全实正在。的手段是将一些消息性的毗连正在一路,从而自动指导你得出相关结论。所以,我们需要对透社的专栏演讲提起高度,其的处所并不正在于该说了什么,而是正在于该是怎样说的。

  我们提取一些环节词:中国国产EUV光刻机、前ASML工程师、逆向工程,然后我们对这些环节词进行阐发。

  皮恩暗里查询拜访发觉,NEC公司答应尼康对采办来的美国光刻机进行拆解,可是尼康对其拆解之后从头拆卸的过程中呈现问题,导致光刻机宕机,这才求帮于美国GCA。

  马克·海金克对此暗示即便你领会了光刻道理,而且具有了制制图纸、制制材料、所需零部件,你也很难将其制制出来,何况也没有图纸给你看。

  1981年,尼康发布了NSR-1010G步进式光刻机。经客户反馈,该光刻机取美国GCA的光刻机正在架构、晶圆台、瞄准系统等多个手艺范畴一模一样,整个财产都将尼康的NSR-1010G光刻机认定为美国光刻机的复成品,可是美国GCA办理层对此却毫不正在意。

  对于一些经常关心中国芯片财产的不雅众来说,透社的内容仿佛很有事理,可是对于整个中国芯片财产来说,透社的内容又存正在多种不合理的说法。

  可是跟着手艺的成长,日本企业占领优势,ASML也凭仗着PAS系列光刻机打开市场,美国的光刻机财产起头走下坡。珀金埃尔默被财团收购放弃光刻机营业,GCA则是被硅谷集团收购。

  日本通产省牵头,推出了超大规模集成电打算(VLSI)。尼康、佳能、东芝、电气株式会社(NEC)均是该打算的搀扶企业。因为尼康本身就是保守光学手艺起身,所以间接承担了日本光刻机的研发项目。

  正在半导体财产的成长史上,确实发生过对光刻机进行逆向工程,然后制制出另一台光刻机的例子,不外这个工作成立正在特定的汗青前提下。

  林楠博士也进行阐发称,对于手艺人员来说,若是有选择的环境下,手艺人员不情愿再做反复的工作,但问题是正在于你有没有能选择的前提。纯真的手艺复制并不是什么挑和,良多时候是正在华侈工程师的时间。前人曾经把良多工作都做了,你反复去做是没成心义的。若是你想做,那就该当用分歧的体例去做。

  以至有美国客户将尼康抄袭美国手艺的文件发送给GCA,GCA也对此嗤之以鼻,并暗示日本企业就算抄袭了美国手艺,那么他们也只能学到外相,制制出来的产物底子比不外美国。尼康能卖出货去,完满是由于日本要求企业支撑国产设备,所以尼康的光刻机被内部消化了。

  日本NEC是美国GCA公司的客户之一,GCA的办事司理肯·皮恩正在这个期间接到了日本NEC的求帮,NEC采办的光刻机呈现宕机的环境,要求皮恩进行手艺阐发。皮恩率领工程师来到了日本NEC公司,正在进行手艺修复的过程中,皮恩发觉光刻机存正在被私拆的踪迹。

  特别是透社将逆向EUV这种方式给中国团队,暗示中国团队采用该手艺制制国产光刻机,让中国企业陷入一种被动的境地。

  林楠博士的立场很大白,虽然跟从国外的手艺标的目的成长手艺是一条清晰的径,但这种方式终归是别人从导的。想要实现实正的手艺逾越,必必要从根本起头一点点堆集经验,持续深切研究相关的财产手艺,只要本人搞懂的整个流程,才能最大限度实现光刻机的自从可控。

  透社正在12月17日登载了一篇专栏演讲,该演讲指出中国科学家曾经正在深圳的尝试室内完成了EUV光刻机的原型机制制。而且该原型机由前ASML工程师参取此中,通过逆向工程的方式完成了EUV的零件制制,估计2030年无望实现用国产EUV制制原型芯片。

  此刻的ASML并没有太大的名气,也没有什么拿得出手的产物,光刻机的财产合作变成了美日两国企业的合作。

  最为主要的,仍是来自于ASML的手艺专利。ASML取蔡司了EUV光刻机超1500项以上的手艺专利,这些专利成为了后来者难以跨越的城墙。

  逆向工程对于晚期的简单设备来说是可行的方案,可是跟着财产成长,EUV光刻机进入高精度和从动化,其零件零件达到了几十万个,牵扯到全球5000多家供应链,涉及到的软件系统跨越亿行代码。

  而且EUV光刻机笼盖了光学、化学、电学、机械、节制、软件等多个根本工程,机械制制完成只是个起头,其实正的难点是将设备市场化,然后不变性和高效率,从而络绎不绝地制制芯片进行盈利。

  前ASML工程师这个消息是实正在发生的工作,该工程师名叫林楠,2015年至2021年正在荷兰ASML研究部担任研发科学家。林楠正在上海光机所担任激光科学取手艺尝试室副从任。10月份,林楠分开上海光机所,正在航空航天大学担任集成电科学取工程学院传授。


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